- [鑫蓝动态]半导体行业的废气有哪些,如何处理?[ 2024-01-18 00:00 ]
- 半导体行业的废气主要包括一般气体废气、含毒性物质的废气、有机废气和含有酸性/碱性物质的废气。其中,有机废气包括非甲烷总烃、氮氧化物、二氧化硫等,酸碱废气包括氨气、硫酸雾、氟化物、氯化物、氯气等。这些废气的产生主要来自半导体制造过程中的清洗、刻蚀、显影等环节。 对于这些半导体废气处理,需要根据其性质选择合适的方法,如洗涤法、吸附法、燃烧法等。同时,还需要注意控制处理效果,确保废气排放符合的相关标准。 半导体废气处理方法有多种,主要包括以下几种: 热氧化法
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- [鑫蓝动态]半导体工业废气处理[ 2023-07-18 00:00 ]
- 半导体废气的成分和废气处理工艺方案可能会因具体的工艺过程和废气排放点而有所不同。以下是一般情况下常见的半导体废气成分和废气处理工艺方案的示例: 1.半导体废气成分: 气体:常见的废气成分包括氨气(NH3)、二氧化硫(SO2)、氮氧化物(NOx)、氯化氢(HCl)、二氧化碳(CO2)、挥发性有机化合物(VOCs)等。 悬浮颗粒物:半导体制造过程中可能产生微小的颗粒物,如硅尘、金属氧化物等。 2.半导体废气处理工艺方案:
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- [鑫蓝动态]鑫蓝环保-半导体废气处理-沸石转轮+催化燃烧[ 2023-03-24 00:00 ]
- 新材料行业半导体废气处理的方法。半导体行业与传统材料相比,新材料产业具有技术高度密集,研究与开发成本高,产品的附加值高,生产与市场的强,应用范围广,发展前景好。 一、半导体制造工艺过程中挥发各种有机废气,废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。这些废气排放主要可以分为四类:酸碱气体、有机废气。 1、酸碱废气主要来自扩散、CVD、CMP及刻蚀等工序,这些工序使用酸碱清洗液对晶片进行清洗。目前,在半导体制造工艺中使用普遍的清洗溶剂为过氧化氢和硫酸的混合剂。 2、
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- [鑫蓝动态]新材料半导体废气处理用什么工艺好呢[ 2023-03-08 00:00 ]
- 随着发展,目前市场上新材料行业与传统材料相比,其应用范围更广了,新材料产业的研究与开发成本高,产品的附加值高在生产与市场性强,而且新材料半导体行业的发展前景好。而新材料半导体行业在加工的过程中采用清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂,这些溶剂中含有大量的有机物成分,在整个工艺加工的过程中将会有部分的有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放,这部分挥发的废气主要成分为具有挥发性的VOCs,下面鑫蓝环保科技(昆山)有限公司讲解一下关于:新材料半导体废气处理。 新材料半导体行业废气
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- [鑫蓝动态]电子半导体废气处理应该用什么工艺[ 2023-02-04 00:00 ]
- 电子半导体废气处理应该用什么工艺? 当今是以半导体技术为核心的信息时代,半导体在生产的过程中将会产生大量的有毒有害气体、有机和无机物等,那电子半导体废气处理用什么工艺? 电子半导体行业在生产时会使用显影剂、光刻胶、清洁剂、蚀刻液等溶剂,而这些溶剂是含有大量的有机物成分。 工业上的有机废气处理常用的工艺有:活性炭吸附法、酸碱中和法、燃烧法、催化燃烧法、吸收法、冷凝法等。 目前,电子半导体行业的废气采用吸附、焚烧两者相结合的废气处理方法。 活性炭吸附:其原理是利用多孔性固体吸
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