电子半导体废气处理应该用什么工艺?
当今是以半导体技术为核心的信息时代,半导体在生产的过程中将会产生大量的有毒有害气体、有机和无机物等,那电子半导体废气处理用什么工艺?
电子半导体行业在生产时会使用显影剂、光刻胶、清洁剂、蚀刻液等溶剂,而这些溶剂是含有大量的有机物成分。
工业上的有机废气处理常用的工艺有:活性炭吸附法、酸碱中和法、燃烧法、催化燃烧法、吸收法、冷凝法等。
目前,电子半导体行业的废气采用吸附、焚烧两者相结合的废气处理方法。
活性炭吸附:其原理是利用多孔性固体吸附剂处理混合气体,使废气中的气体成分吸附在固体表面以达到分离的目的,该废气处理设备能够有效地去除浓度很低的有害物质,净化效率高,设备操作方便。
焚烧:焚烧的原理是在热氧化中,有机废气流经过加热,气相中的有机物被氧化,将有机物C02和H20,通常是用于流量稳定的、低浓度的气体。
因电子半导体焚烧的过程中会产生Si02,而Si02会使催化剂钝化,所以在市场上电子半导体是很少用到接触氧化的方法。
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